PECVD法制备硅基类金刚石薄膜的摩擦学性能

论文发布时间：[2010-04-09] 范文大全编辑：Voive.net

所有作者：王学东王鹏

作者单位：山东省路桥集团有限公司第四分公司

论文摘要：以N (１００) 型的单晶硅片为基体，运用等离子体化学气相淀积台在单晶硅片衬底上沉积了类金刚石薄膜。用纳米压痕仪测定了薄膜的硬度，用UMT-２MT摩擦磨损试验机考察了类金刚石薄膜在不同气体流量比和射频功率下薄膜的摩擦学性能。结果表明：随着CH４与H２流量比的减小，DLC膜的硬度、弹性模量和耐磨寿命均先增加后降低；随着射频功率的增加，DLC膜的硬度和弹性模量均先增加后降低，耐磨寿命逐渐增加。

关键词： PECVD 类金刚石薄膜硬度耐磨寿命

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